国产7nm有信了 中芯国际不用EUV光刻机也能搞定

来源:TECHWEB  责任编辑:小易  

如果一个男星毁在了身高上,那么是你们太关注他的身高,或者他的才华还不如身高能引起你的注意,这个男星是失败的,李连杰,成龙,都不高,但是没人用他们的身高说事,他们的成绩和身高无关,只是他们很努力,所以有今天的成功,在欧美普遍人的身高都很高,但是也有很多个子不高的演员获得成功,身高是一个自然条件,但是绝对不是一个决定性的条件。别再用身高说事了,也别再注意这些了,关注一下歌手的歌曲,演员的作品,不要本末倒置,演员有演技有好的作品而被观众喜爱,和身高真的有很多关系么?

国内最大的晶圆代工厂中芯国际在Q4季度中已经量产14nm工艺,贡献了1%的营收,该工艺能够满足国内95%的芯片生产。

最近几天,许多人的朋友圈都会刷到这样一条内容:北京一小伙儿由于觉得煎饼果子里少加了个鸡蛋,于是与摊煎饼的大妈发生争执,大妈一怒之下说出了一句让在场的人都颇为震惊的话:“我月入3万,怎么会少你一个鸡蛋?”也许你觉得煎饼摊大妈月入3万是一件不合理的事,但是如果你知道煎饼摊大妈每天的生活流程时,你就会发现这一切其实理所当然。如果想成功运营起一个煎饼摊,每天4点多就要起床,开始准备原料,无论寒暑,没有休息日,没有办公地点,太多人连固定住所都没有,如果按一个煎饼果子5块钱的利润来算,平均每天要做200多个煎饼果子!这样的辛劳程度远不是坐在写字楼里的白领们所能体会的。一天生意不好的时候卖大概200个,生意

中芯国际14nm工艺现在最重要的问题还是产能,主要是在上海的中芯南方12英寸晶圆厂生产,去年底也就生产了1000片晶圆左右,产量很低。

睡觉流口水莫大意,或是疾病的前兆!有些人睡觉的时候爱打呼噜,有些人爱说梦话,还有些人爱磨牙,这些睡觉时的怪癖对我们来说都不会陌生,外加上一个让许多人都中枪的情况——爱流口水,这四种行为简直就是睡觉时的“四大魔怔”有木有?!睡觉爱流口水这个情况,不分男女老少,一般如果是儿童或者小宝宝睡觉流口水,我们就会觉得很正常。但是,对于已经成年的我们来说,为什么长这么大睡觉还会流口水,是正常的么?医学上把这种情况叫做「流涎症」。通常睡觉的时候,我们产生的口水明显比清醒时少;但是在清醒时我们能主动把产生的口水咽下,所以并不会发生口水从嘴角流出来的状况。正常情况下,睡眠时我们也会把口水咽下,但由于各种原因影响了

根据中芯国际联席CEO梁孟松的说法,14nm月产能将在今年3月达到4K,7月达到9K,12月达到15K。

当然是薛之谦啦个人比较喜欢薛之谦当然更喜欢薛之谦的每一首歌我喜欢有故事的歌手有故事的歌手唱的每一首歌都是那么的让人心疼????尤其是薛之谦加油薛之谦不管过去怎么样希望你未来?过得越来越好至我最爱的薛之谦

中芯国际的14nm产能在15K晶圆/月之后应该不会继续提升了,还有更新的工艺。

其中基于14nm改良的12nm工艺也进入客户导入阶段了,该工艺相比14nm晶体管尺寸进一步缩微,功耗降低20%、性能提升10%,错误率降低20%。

不过14nm工艺相比台积电、三星的工艺依然存在2-3代的差距,而且满足不了制造当前最高性能水平的处理器,所以中芯国际还在发展更新一代的N+1、N+2工艺。

在这次的财报会议上,梁孟松博士也首次公开了N+1、N+2代工艺的情况,他说N+1工艺和14nm相比,性能提升了20%,功耗降低了57%,逻辑面积缩小了63%,SoC面积减少了55%。

中芯国际一直没有明确14nm之后是否跳过10nm工艺,所以这个N+1到底是10nm还是7nm不能确定,但根据上面的说法,N+1基本上可以确定是7nm级别的工艺了,因为芯片面积缩减55%意味着晶体管密度提升了1倍,这超过了14nm到10nm工艺的进化水平,台积电从14nm到7nm也就是提升了1倍的密度。

不过梁孟松也提到了,N+1代工艺在功耗及稳定性上跟7nm工艺非常相似,但性能不如,业界标准是提升35%,所以中芯国际的N+1工艺主要开始面向低功耗的。

N+1之后还会有N+2,这两种工艺在功耗上表现差不多,区别在于 性能及成本,N+2显然是面向高性能的,成本也会增加。

至于备受关注的EUV光刻机,梁孟松表示在当前的环境下,N+1、N+2代工艺都不会使用EUV工艺,等到设备就绪之后,N+2之后的工艺才会转向EUV光刻工艺。

从梁孟松的解释来看,中芯国际的7nm工艺发展跟台积电的路线差不多,7nm节点一共发展了三种工艺,分别是低功耗的N7、高性能的N7P、使用EUV工艺的N7+,前两代工艺也没用EUV光刻机,只有N7+工艺上才开始用EUV工艺,不过光罩层数也比较少,5nm节点寸是充分利用EUV光刻工艺的,达到了14层EUV光罩。

还有就是中芯国际的7nm级工艺问世时间,之前的财报中梁孟松提到是在2020年底开始试验产能,真正生产要到2021年了。

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中国7nm技术成功了吗

半导体行业本身是个高科技行业,半导体行业从上游到下游,依次又有材料和设备、芯片设计、芯片制造、芯片产品封测等行业。在芯片设计行业中,国内最具代表性的芯片设计厂商当是华为旗下的海思半导体莫属。据IC Insights之前对外公布的数据,到2017年,海思半导体的营收就已经增长到47.2亿美金,在该年中的研发投入也直*10亿美金。在芯片制造(晶圆代工)行业中,在中国*地区排名第一的本土厂商则是中芯国际。目前,中芯国际最为先进并已投入量产的工艺是28nm工艺。预计到了2019年,中芯国际有望投产14nm工艺。不可否认的是,在芯片设计和制造两大行业中,本土厂商与国际厂商相比仍然有些差距。在材料与设备行业中,国内本土厂商仍须奋力追赶国际领先同行。不过,中微半导体倒是一个特例。

日前,国内有不少媒体纷纷在网络上转发或分享了一段播放时长约5分钟的视频内容,该段视频来自央视。2018年3月3日晚间,据央视纪录片《大国重器》讲述:位于上海的中微半导体,已经研发出了7nm刻蚀机,这标志着中国本土厂商自主研发的芯片制造设备终于与世界最先进水平保持同步了。目前,芯片制造行业最大的代工厂商台积电已经开发出可量产的7nm制程工艺,并在业界居于领先水平。而在7nm工艺设备方面,台积电有五大设备供应商,分别是应用材料、科林研发、东京威力科创、日立先端和中微半导体。换言之,中微半导体是唯一一家来自中国*的半导体设备厂商,且为台积电供应7nm刻蚀机台。显然,中微半导体自主研制的设备是深受台积电认可的。

刻蚀机不同于光刻机。光刻机是激光将掩膜版上的电路临时复制到硅晶圆片上,刻蚀机是按光刻机在硅片上刻好的电路结构,在硅片上进行微观雕刻,以刻出沟槽或者接触空。中微半导体研制的7nm刻蚀机台,所采用的是等离子体刻蚀技术,台积电等芯片制造厂商利用该设备,可以在硅片上雕刻出微观电路。

中微半导体研发的7nm刻蚀机中,有着名为气体喷淋盘的核心部件。另有媒体这样报道:“气体喷淋盘是刻蚀机最重要的核心部件之一,也是7纳米芯片刻蚀机中的一项关键技术点。它的材料选择和设计对于刻蚀机性能指标的影响至关重要。中微和国内厂家合作,研制和优化了一整套采用等离子体增强的物理气象沉积金属陶瓷的方法,这种创新的方法极大地改善了材料的性能,其晶粒更为精细、致密,缺陷几乎为零。相比国外当前采用的喷淋盘,中国的陶瓷镀膜喷淋盘寿命可以延长一倍,造价却不到五分之一。”

中国本土厂商能够研制出可与世界最先进水平同步的刻蚀机,与中微半导体的创始人尹志尧,以及该公司的技术骨干们是分不开的。尹志尧曾经在美国应用材料(半导体设备行业中的龙头老大)担任过副总裁,并参与领导了几代刻蚀机的研发工作,在美国工作期间就持有了86项专利。十三年前,当时已经60岁的尹志尧决心放弃优越的物质待遇,离开美国并回国创业。有媒体直接引用过尹志尧说过的一句话:“给外国人做嫁衣已经做了很多事情了,那我们应该给自己的祖国和人民做一些贡献,所以就决心回来了。”

当时,跟随尹志尧一起,从美国回到中国的,还有大约三十位资深工程师,这些工程师曾经在应用材料、科林研发等半导体设备厂商中有过二、三十年的研发和制造经验。尹志尧等人从美国回国之际,美方要求所有的技术专家都不得把美国公司的技术如设计图纸、工艺过程等一并带回国内,还对这些技术专家们所持有的600万份文件和个人电脑做了彻底清查。

尹志尧及其团队回到国内以后,于2004年在上海创立中微半导体,并从零开始研发和制造刻蚀机等设备。2008年,中微半导体的刻蚀机进入国际市场。然而应用材料和科林研发实在难以接受中微半导体能在短短3年左右的时间里研发出高端刻蚀机的事实,先后向中微半导体提起专利诉讼,最终这两次旷日持久的专利诉讼都以中微半导体胜诉而告终。*年,美国商业部下属的工业安全局特别对外发布一则公告称,由于中国本土厂商已能够研制出具备国际竞争力的等离子刻蚀机,决定把等离子刻蚀机从美国对中国*的技术设备名单上去除。到了今天,中微半导体的设备产品已经远销欧洲、韩国、新加坡、台湾等地,且在原材料方面同样取得了局部性的突破。

最后,引用尹志尧在央视纪录片中的说的话:“我国正在成为集成电路芯片和微观器件生产的大国,到2020年,在我国新的芯片生产线上的投资将会超过美国、日本和韩国等地区的投资,中国会变成一个最大的芯片生产基地。我们相信到2030年,我国的芯片和微观器件的加工能力和规模一定能完全赶上并在不少方面超过国际先进水平。”

生产光刻机有哪些上市公司?

国际一般的是:

ASML--荷兰

尼康--日本

佳能--日本

主要的就这三家

对生产线炭黑处理的后道部分进行技术改造,年产规模6万多吨、分阶段进行了试生产、日等少数发达国家在这一领域的垄断地位。公司生产的36-5白炭黑被用于载人飞船获得*成功,也是中国500家最大化工企业之一。公司生产的雪珠牌系列白炭黑有二十余个型号,炭黑年生产能力20万吨,主营业务包括主题商场及综合性商业物业开发租赁、美炭黑概念股

龙星化工,其产品质量在国内处于领先地位。硅是地球上储量第二的化学相关信息元素,作为半导体材料,人们对它研究得最多、技术最成熟,而且晶硅性能稳定、无毒,因此成为太阳电池研究开发、生产和应用中的主体材料。但高纯度多晶硅在我国却十分短缺,绝大部分需要依赖进口。  高纯度硅在石英中提取,以单晶硅为例,提炼要经过以下过程:石英砂一冶金级硅一提纯和精炼一沉积多晶硅锭一单晶硅一硅片切割。这样被还原出来的硅的纯度约98-99%,但半导体工业用硅还必须进行高度提纯。单晶硅是制造硅晶圆片的基础材料,多晶硅粗砂是制造单晶硅的基础材料。

原料开采,一般有石英矿的地方都有。硅晶圆片生产出来之后,会送进半导体代工厂进行光刻加工,之后送到封装车间进行切片封装,再送到测试工厂测试,之后,就成了市场上卖的IC产品。高级的像CPU啊,低级的像各种小塑封小集成块啊,都是最终的产品。

目前世界上最大的代工厂是台湾的台积电,中国主要集中在广州、无锡、上海一带,中芯国际是目前中国比较有规模的企业。

如今ASML已经是霸主了,ASML垄断了整个行业107%的利润,因为尼康是亏损的,ASML 的EUV就快出来了,那是尼康就彻底没戏了,至于佳能,比较识时务,2009年就退出高端芯片光刻机市场了,专注于LCD面板曝光机

哪些半导体公司用ASML光刻机

很多~我知道先进半导体,新进半导体,华虹,中芯国际都用,其他的场没有去看过就不清楚了~

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